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鋼研納克全譜ICP光譜儀

  • 產(chǎn)品型號:Plasma2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2023-10-30
  • 訪  問  量:2638
  • 簡要描述:鋼研納克全譜ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經(jīng)驗,數(shù)十項ICP檢測標準的起草單位,ICP光譜儀產(chǎn)品標準GB/T 36244-2018起草單位,重大科學儀器專項《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,懂ICP應用的國產(chǎn)ICP光譜儀制造商。
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品牌NCS/鋼研納克價格區(qū)間面議
儀器種類全譜直讀應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,食品,化工,石油

鋼研納克全譜ICP光譜儀

儀器介紹


     Plasma2000型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀是鋼研納克“國家重大科學儀器設備開發(fā)專項"成果。采用中階梯光柵光學結構和科研級CCD檢測器實現(xiàn)全譜采集。儀器穩(wěn)定性好、檢測限低、快速分析、運行成本低。

     Plasma2000型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀可用于地質(zhì)、冶金、稀土及磁材料、環(huán)境、醫(yī)藥衛(wèi)生、生物、海洋、石油、化工新型材料、農(nóng)業(yè)、食品商檢、水質(zhì)等各領域及學科的樣品分析??梢钥焖?、準確地檢測從微量到常量約70種元素。


1、 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構,徑向觀測,具有穩(wěn)健的檢測能力。

2、 高效穩(wěn)定的自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,體積小巧,匹配速度快,確保儀器的高精度運行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

3、 高速面陣CCD采集技術,單次曝光獲取全部譜線信息,真正實現(xiàn)“全譜直讀"。

4、 功能強大的軟件系統(tǒng),簡化分析方法的開發(fā)過程,為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

鋼研納克全譜ICP光譜儀

技術參數(shù)

1. 光學系統(tǒng):中階梯二維分光光學系統(tǒng),焦距400mm

2. 譜線范圍:165nm~900nm,光學分辨率:0.007nm(200nm處)

3. 光柵規(guī)格:中階梯光柵,52.67刻線/毫米,尺寸:100mm x 50mm

4. 晶體管固態(tài)射頻發(fā)生器,小巧高效

5. 27.12MHz頻率提高信噪比,改善了檢出限

6. 自動匹配調(diào)節(jié)

7. 全組裝式炬管,降低了維護成本

8. 計算機控制可變速12滾軸四通道蠕動泵,具有快速清洗功能

9. 實驗數(shù)據(jù)穩(wěn)定性良好:重復性 RSD ≤0.5% (1mg/L) (n=10);穩(wěn)定性:RSD ≤2.0%(大于3小時)


儀器特點

穩(wěn)健高效的全固態(tài)光源

     全固態(tài)射頻發(fā)生器,體積小、效率高,全自動負載匹配,速度快、精度高,能適應各種復雜基體樣品及揮發(fā)性有機溶劑的測試,具有優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

     垂直炬管的設計,具有更好的樣品耐受性,減少了清潔需求,降低了備用炬管的消耗。

     簡潔的炬管安裝定位設計,快速定位,精確的位置重現(xiàn)。

     實時監(jiān)控儀器運行參數(shù),高性能CAN工業(yè)現(xiàn)場總線,保障通訊高效可靠。

精密的光學系統(tǒng)

     中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構,使用超純SiO2棱鏡,高光路傳輸效率,保證了深紫外區(qū)的元素測量。

     優(yōu)化的光學設計,采用非球面光學元件,改善成像質(zhì)量,提高光譜采集效率。

     光室多點充氣技術,縮短光室充氣時間,提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性,開機即可測量。

     光室氣路獨立,可充氮氣或氬氣。

     包圍式立體控溫系統(tǒng),保障光學系統(tǒng)長期穩(wěn)定無漂移。

進樣系統(tǒng)

     儀器配備系列經(jīng)過優(yōu)化的進樣系統(tǒng),可用于有機溶劑、高鹽/復雜基體樣品、含氫氟酸等樣品的測試。

     使用一體式炬管,易于維護,轉換快速,使用成本低。

     使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量,流量連續(xù)可調(diào),保障測試性能長期穩(wěn)定。

     4通道12滾輪蠕動泵,泵速連續(xù)可調(diào),確保樣品導入穩(wěn)定性。

 

檢測器

     大面積背照式CCD檢測器, 全譜段響應,高紫外量子化效率,抗飽和溢出

     具有極寬的動態(tài)范圍和極快的信號處理速度

     一次曝光,完成全譜光譜信號的采集讀取,獲得更為快速、準確的分析結果

     同類產(chǎn)品中大靶面尺寸,*像素,單像素面積24μm X 24μm

     三級半導體制冷,制冷溫度低于-35℃,具有更低的噪聲和更好的穩(wěn)定性

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